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4nm
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套刻精度
它更像是对标ASML的NXT:870B光刻机,400晶圆/小时的产能及
4nm
套刻精度是一样的,但后者的翘曲控制能力没有公布,这方面应该是佳能占优一些。
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4nm
佳能公司宣布,将于2026年12月份上市面向存储和逻辑芯片的KrF扫描式半导体光刻机FPA-6400ES6a,产能达到了400片晶圆/小时,套刻精度
4nm
也做到了业界高水平。
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