套刻精度

它更像是对标ASML的NXT:870B光刻机，400晶圆/小时的产能及4nm套刻精度是一样的，但后者的翘曲控制能力没有公布，这方面应该是佳能占优一些。

佳能公司宣布，将于2026年12月份上市面向存储和逻辑芯片的KrF扫描式半导体光刻机FPA-6400ES6a，产能达到了400片晶圆/小时，套刻精度4nm也做到了业界高水平。