集成电路布图设计

《条例》旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。

第一条为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展，制定本条例。

国家知识产权局条法司主要负责人介绍，《中华人民共和国商标法》《集成电路布图设计保护条例》《专利优先审查管理办法》的陆续修改，不断夯实知识产权法治根基。

国家知识产权局还在沪开展了商标法和集成电路布图设计保护条例配套制度立法调研。

新修订法律法规规章紧扣当前创新发展的实际需求，在优化商标注册管理和保护制度、强化集成电路布图设计专有权保护、扩大专利优先审查领域、压缩核心专利授权周期等方面，进行了针对性的制度设计，为推动知识产权事业高质量发展提供良好的制度支撑。

来自上海知识产权相关管理部门和司法部门，以及高校、科创企业和服务机构代表，就商标注册条件、优化商标授权确权程序、集成电路布图设计申请和保护等方面提出相关意见建议。