阿斯麦
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阿斯麦即将推出的下一代HighNA的EUV设备，能够打印更精细的芯片。
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事件
2026-09-08
当地时间9月8日，阿斯麦宣布，将与其主要客户合作，生产其最先进的光刻设备
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2026-00-00
阿斯麦还计划在2031年前展示配备更大掩模的试点生产线
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效果
阿斯麦表示，12英寸光罩有望提高晶圆厂生产效率、降低芯片制造成本并消除光罩拼接限制。
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其它
当地时间9月8日，阿斯麦宣布，将与其主要客户合作，生产其最先进的光刻设备，用于开发由英伟达等公司设计的大型数据中心芯片。
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