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维信诺率先推出高迁移率ALD全氧化物技术的
量产解决方案
2026年05月07日13:04投影时代
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当地时间5月5日,在SID学术论坛上,维信诺技术专家陈发祥受邀发表主题报告,宣布其率先推出高迁移率ALD(AtomicLayerDeposition,原子层沉积)全氧化物技术的
量产解决方案
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