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烘烤工艺
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光刻胶烘烤对DUV浸润式光刻随机效应的影响2026年09月17日13:49电子产品世界SPIE文库：光刻胶
烘烤工艺
对DUV浸润式光刻随机效应的影响研究
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因此
烘烤工艺
需要在“化学图像平滑”和“保真成像”之间做权衡取舍。
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如果对两道
烘烤工艺
分别独立调优，很可能无法得到全局最优的组合参数。
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烘烤工艺
调优成本相对较低，无需更换光刻机、掩膜版或者光刻胶，即可改善工艺表现。
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