刻蚀
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刻蚀是芯片前道制造的关键工序，指的是在晶圆上按设计图形去除材料、形成微小结构。
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中微公司是国内半导体刻蚀设备的龙头企业，2004年由曾任美国应用材料公司副总裁的尹志尧带队回国创立。
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直击2026湾芯展｜存储扩产潮下，国产刻蚀设备需求放量2026年10月16日09:00界面“客户的扩产意愿非常强烈。
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2025年，中微刻蚀设备销售约98.32亿元，LPCVD薄膜设备销售约5.06亿元。
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丛海表示，“很难给出今年的增幅目标，但在未来两到三年内，薄膜会和我们刻蚀设备的收入并驾齐驱。
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存储扩产潮当下，刻蚀设备也开始迎来需求放量。
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它以等离子体刻蚀设备起家，如今已经成为国产刻蚀设备的头部厂商，截至2026年6月底，累计已有超过8800个设备反应台在国内外220余条生产线上量产。
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据了解，中微CCP刻蚀设备已用于5纳米及以下的多种工艺。
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近两年，国产刻蚀设备开始大量斩获晶圆厂订单，中微、北方华创等成为其中的代表性厂商。
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直击2026湾芯展｜存储扩产潮下，国产刻蚀设备需求放量
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直击2026湾芯展｜存储扩产潮下，国产刻蚀设备需求放量|界面新闻·科技直击2026湾芯展｜存储扩产潮下，国产刻蚀设备需求放量
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2026-06-16
如今已经成为国产刻蚀设备的头部厂商，截至2026年6月底，累计已有超过8800个设备反应台在国内外220余条生产线上量产
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2026-06-14
