光刻机

光刻机是半导体制造的核心装备，其出口意味着国产设备在技术成熟度与可靠性方面已达到国际客户要求。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

美国认为，中国7nm芯片现在主要是用以前买的设备做出来的，光刻机是精密绝伦的设备，没有原厂工程师定期维护、更换零件，中国DUV坏了不能修，那么坏一台少一台，中国现有的DUV只能越用越少，芯片产能也只能收缩。

公司联合创始人与我的经历相似——一毕业就进入光刻机行业，一干就是十几年，我们都希望继续深耕光刻机领域。

高安：他们研发的是类似光刻机的设备。

大额产业资本集中入局，一方面将为米莱芯程i-line光刻机落地、KrF光刻机研发以及投影物镜、传感器等核心零部件攻关提供充足的资金弹药；

但光刻机研发需要大量资源和资金投入，因此作为一家民营企业我们选择先从能产生营收的业务切入。

21世纪：你曾在ASML参与EUV光刻机的研发工作，是什么契机让你投身国产DUV光刻机？

21世纪：目前米莱芯程光刻机的研发进展如何？

国内从事光刻机研发的人才本就稀缺，核心技术人员更是凤毛麟角。

我们团队的核心骨干均有光刻机研发经历，覆盖光学镜头、运动平台、整机设计与标定等技术领域。

我们将光刻机研发划分为16个技术领域，每个领域都配有深耕7年以上的技术专家，从业时间最长者达14至15年。

上海米莱芯程半导体有限公司（以下简称“米莱芯程”）推出步进光刻机整机，还展示了投影物镜、调焦调平传感器等核心零部件。

因此，芯颐和目前以光学镜头为主营业务，但我们的长期规划是做光刻机整机，对外则从光学镜头起步。

另一方面，产业股东所带来的晶圆厂验证渠道、上下游供应链资源，也将加速其产品测试迭代、商业化落地进程，推动国产光刻机整机与核心零部件同步实现突破。

任何一家光刻机企业，如果解决不了一级分系统，就很难做成整机，反之，仅有分系统而没有整机技术亦做不成光刻机整机。

此外，中国在光刻机技术还在推进纳米压印与电子光束多条路线并行研发，国内企业璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经交付给国内特色工艺客户产线使用，能够用于储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等领域。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

21世纪：从供应链来看，目前米莱芯程光刻机的国产化率有多少？

因此，不仅是光刻机企业，一些半导体设备企业也会找我们合作，将我们的零部件以更低的成本应用于其设备。

它的技术参数正好满足了现在第三代半导体市场的需求，专门解决了行业里的实际问题，这也说明中国光刻机企业正在用更灵活、更实用的方式参与全球竞争。

镀膜材料的纯度只要差一丢丢，整台光刻机的产能直接跳水

镀膜材料的纯度只要差一丢丢，整台光刻机的产能直接跳水。

DUV光刻机只是中国光刻机产业链发展的第一步，如今国内已有多家科研机构和企业针对次时代技术开始布局。

目前中国在28nm及以下的核心设备方面已取得决定性进展，国产28nmDUV光刻机核心参数对标ASML主流产品，而且国产设备的替代速度也在加快，阿斯麦的报告显示，中国对进口设备还有依赖，但像SSA600这种国产设备已经能用在90纳米的生产线上。

快科技10月16日消息，据报道， 江苏海思半导体科技有限公司近日接连完成两台光刻机的出厂验收与发运，其中一台即将出口欧洲，这是该公司自2024年以来向境外市场交付的第17台光刻设备

10月13日，另一台面向8英寸晶圆的全自动掩模对准光刻机完成调试并装车发运

这家小厂专门给蔡司供镀膜原料，蔡司造的反射镜又是阿斯麦极紫外光刻机的核心部件，整条利益链串得明明白白。

21世纪：从供应链来看，目前米莱芯程光刻机的国产化率有多少？

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。