光刻机

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

美国认为，中国7nm芯片现在主要是用以前买的设备做出来的，光刻机是精密绝伦的设备，没有原厂工程师定期维护、更换零件，中国DUV坏了不能修，那么坏一台少一台，中国现有的DUV只能越用越少，芯片产能也只能收缩。

此外，中国在光刻机技术还在推进纳米压印与电子光束多条路线并行研发，国内企业璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经交付给国内特色工艺客户产线使用，能够用于储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等领域。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

有人惊呼，这是中国芯片“换道超车”、打破西方光刻机封锁的神来之笔，足以重塑全球半导体产业格局。

它的技术参数正好满足了现在第三代半导体市场的需求，专门解决了行业里的实际问题，这也说明中国光刻机企业正在用更灵活、更实用的方式参与全球竞争。

DUV光刻机只是中国光刻机产业链发展的第一步，如今国内已有多家科研机构和企业针对次时代技术开始布局。

目前中国在28nm及以下的核心设备方面已取得决定性进展，国产28nmDUV光刻机核心参数对标ASML主流产品，而且国产设备的替代速度也在加快，阿斯麦的报告显示，中国对进口设备还有依赖，但像SSA600这种国产设备已经能用在90纳米的生产线上。

全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫 · 富凯于当地时间周二表示，公司预计数月内就能看到首批采用新款高数值孔径（High-NA）光刻机生产的产品

美国国会4月提出《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH 法案）， 要求荷兰、日本等盟友全面遵守美国出口管制措施，在现行极紫外光刻机（EUV）对华全面禁售的基础上，进一步将浸没式深紫外光刻机（DUV）等设备也纳入限制范围，甚至禁止为已售设备提供售后服务

最直接戳中行业痛点的评论来自荷兰网友，对方发问，我们现在把最先进的光刻机卖给中国，还来得及吗？

更关键的是，外界对中国实行了严密的技术封锁，最先进的光刻机我们买不到。

阿斯麦CEO富凯：首批High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世2026年05月19日19:46IT之家IT之家5月19日消息，全球顶尖芯片设备制造商阿斯麦（ASML）首席执行官克里斯托夫·富凯于当地时间周二表示，公司预计数月内就能看到首批采用新款高数值孔径（High-NA）光刻机生产的产品。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。