光刻机

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

美国认为，中国7nm芯片现在主要是用以前买的设备做出来的，光刻机是精密绝伦的设备，没有原厂工程师定期维护、更换零件，中国DUV坏了不能修，那么坏一台少一台，中国现有的DUV只能越用越少，芯片产能也只能收缩。

此外，中国在光刻机技术还在推进纳米压印与电子光束多条路线并行研发，国内企业璞璘科技自主设计研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已经交付给国内特色工艺客户产线使用，能够用于储存芯片、硅基微显、硅光及先进封装等领域。

孔博的文章里也给出了相对客观的阶段性评估，当然从短期维度来看，现在中国产业对全球DUV光刻机市场的冲击还非常有限，产能爬坡需要时间，预计今年国内仅能交付几台量产的国产DUV光刻机，到2027年全年交付量也不过二十台左右。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。

它的技术参数正好满足了现在第三代半导体市场的需求，专门解决了行业里的实际问题，这也说明中国光刻机企业正在用更灵活、更实用的方式参与全球竞争。

DUV光刻机只是中国光刻机产业链发展的第一步，如今国内已有多家科研机构和企业针对次时代技术开始布局。

目前中国在28nm及以下的核心设备方面已取得决定性进展，国产28nmDUV光刻机核心参数对标ASML主流产品，而且国产设备的替代速度也在加快，阿斯麦的报告显示，中国对进口设备还有依赖，但像SSA600这种国产设备已经能用在90纳米的生产线上。

快科技8月17日消息，此前巴黎第一大学教授埃马纽埃尔孔博公开发表署名文章指出，美欧联合出台对华光刻机出口禁令的操作，最后反而会让美国和欧洲自己成为最大的输家，根本达不到他们最初想要遏制中国半导体产业发展的目的

现在中国虽然没法买到最顶尖的EUV光刻机，但是依然可以通过增加DUV光刻机多重曝光工艺的次数，来制造制程指标接近顶尖水平的先进芯片，唯一的代价是生产良率会比用EUV工艺低不少。

对ASML而言，光刻机是它的立身之本，但同时它作为美国盟友体系里不可替代的技术节点，要对中国这个全球最大的光刻机市场卡脖子，可以说进退两难。