先进光刻机

在日前的All-In峰会上判断，NVIDIACEO黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机，黄仁勋判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。

比蔡司更乐观黄仁勋：中国2030年就能搞定先进光刻机2026年09月15日13:36快科技快科技9月15日消息，ASML是当前唯一能量产EUV光刻机的公司，欧美限制国内芯片产业也是靠限制ASML供应，但黄仁勋判断中国公司在2030年就能搞定先进光刻机。

相比之下，黄仁勋的判断更乐观，不过这两个回答之间也没有可比性，蔡司回应的是EUV，黄仁勋说的是先进光刻机，EUV当然是先进光刻机，但DUV依然也是先进光刻机，2030年也不会落伍，重要性也不会因为EUV量产了就降低，两种技术是独立的生态。

在搞不出先进光刻机、搞不出高纯材料、掌握不了核心设计软件的绝望现实下，中共治下的芯片企业只能选择抬高散热风险、增加封装成本，强行压榨旧设备剩余价值以提升性能的畸形路线。

根据账面数据，这颗芯片在完全没有使用先进光刻机的情况下，晶体管等效密度暴增了53.5%，综合系统算力居然宣称能摸到台积电3纳米的屁股。

因为美国联合盟友筑起了一堵高墙，连先进光刻机的一个螺丝都不卖给中国。