专家解读：中国强化集成电路布图设计保护和运用
近日，中国国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（下称《条例》），自 2026 年 10 月 15 日起施行。此次修订是该《条例》自 2001 年施行以来的首次系统性修订，旨在保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术创新，促进科学技术发展。此次修订如何回应实践需要，进一步强化集成电路布图设计保护和运用，与有关法律法规做好衔接？本版邀请两位专家深度解读《条例》修订亮点内容，带您读懂集成电路布图设计保护制度的新趋势。
集成电路布图设计独创性声明制度
解读专家：中国社会科学院法学研究所 李顺德
此次修订的亮点之一在于增加了“独创性声明”要求。“独创性声明”是《条例》修订增设的法定登记文件，是布图设计申请登记必须提交的申请文件之一。简而言之，布图设计的“独创性声明”把抽象的“独创性”判断要件（标准）转化为可审查、可举证的书面文件，申请登记后存入官方档案，是判断布图设计是否具备独创性的法定关键书证。
集成电路布图设计增加“独创性声明”要求，是中国针对该领域保护制度的一次重要完善，其重要意义体现在以下方面。
一是提升了布图设计登记制度的确定性。独创性声明制度通过要求权利人在申请登记阶段就明确指明布图设计的独创性部分，从而显著提升布图设计“保护范围”的确定性，将权利人的主张在登记阶段即予以明确，专有权人在后续程序中不能再随意扩大保护范围，可以使独创性审理范围清晰明确。此外，独创性声明作为必须提交的申请文件，有助于引导申请人合法行使权利，提升登记制度的确定性。综上，独创性声明制度使权利边界更加清晰，有效解决了保护范围难以确定的问题，在保护权利人合法权益的同时，更好地平衡了布图设计权利人与社会公众之间的利益。
二是强化了布图设计源头保护，有利于降低确权、维权、运用等环节成本，提升整体效能。在确权环节，因申请人需要投入精力撰写独创性声明，可能会增加前期代理或内部法务成本，但独创性部分在登记时通常即被固定，权利基础更加扎实，可有效降低被撤销登记的风险成本。在维权环节，可有效降低与权利保护范围确定相关的举证与鉴定成本，显著提高侵权纠纷处理效率。同时配合诚实信用原则和惩罚性赔偿制度，既可防止权利人利用模糊的权利边界进行“钓鱼维权”或滥诉，也可提高侵权违法成本，从源头上减少侵权行为的发生。在运用环节，一方面可以在布图设计的转让、许可或质押等商业运用中，使受让人或者被许可人清晰地评估布图设计的实际技术价值和权利边界，降低尽职调查成本，另一方面也可以减少权属纠纷与谈判摩擦，降低商业合作中的沟通与谈判成本。
中国集成电路布图设计保护制度的重大修改
解读专家：中国国家工业信息安全发展研究中心知识产权所 黄蕴华
此次《条例》修订内容主要涉及扩展保护范围、完善申请登记程序、加大侵权赔偿、促进布图设计运用等多方面。其中，最为重要的修改内容便是扩展保护范围，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入《条例》法定保护范围，破解新型集成电路知识产权保护难题。
一、集成电路技术发展进入革新时代
《条例》于 2001 年颁布，彼时立足产业发展实际，借鉴国际立法经验，将保护对象聚焦于电子传输、电子运算的传统集成电路布图设计。当前，传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界，光子、量子等颠覆性技术不断涌现，推动集成电路迈入以新架构、新机理、新材料、新器件为竞争主线的后摩尔时代。新修订的《条例》及时回应技术发展前沿，将“集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计”纳入保护范围，正是对集成电路技术发展的准确把脉与积极回应。
二、实现新型集成电路布图设计全方位保护
虽然实践中已通过个案审查的方式实现对新型集成电路布图设计的保护，但随着技术快速演进，集成电路愈发呈现出器件定性模糊、功能载体分化等特点，技术层面的广义范畴与法律层面的狭义认定之间的矛盾会逐渐增大，实践中难免出现确权依据不足、行政司法裁判标准不一等问题，有待立法从根本上予以解决。新修订的《条例》在沿用传统集成电路概念的基础上，明确规定“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护”，有效解决了未来集成电路器件、载体等定性问题，对集成电路布图设计知识产权法律保护问题进行了前瞻性、专业性回应。
三、促进集成电路技术创新发展
《条例》此次修订提升了集成电路布图设计知识产权保护水平，是促进集成电路技术创新发展的重要举措。集成电路设计环节处于产业链上游，决定着芯片的性能、功耗与竞争力。随着技术发展，光子芯片、量子芯片产品迭代周期进一步缩短，波导排布、量子比特布局、三维异构互连、版图拓扑优化等版图架构设计更加成为技术竞争的关切点。修订后的《条例》，将进一步筑牢前沿集成电路知识产权保护屏障，构建起适配集成电路技术创新节奏的制度体系。（言知工作室 薛佩雯 田伊慧 郭思源）
（编辑：刘珊）