添加剂
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体系
图1d中,电流密度与面容量提高至3mAcm⁻²和3mAhcm⁻²后,添加剂体系仍具有更稳定的电压响应;
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图1g的线性扫描伏安曲线则显示添加剂体系较早出现氧化响应,支持FNPB优先反应并参与正极保护膜形成的解释,而非将其简单理解为电解液本征氧化稳定窗口扩大。
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图4a和图4b分别给出基础与添加剂体系的F1s深度剖析谱:在FNPB体系中,随溅射深入,C–F信号更快减弱,而Li–F信号保持突出,说明界面内部富含无机LiF。
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图5f显示,添加剂体系在0.2C、0.5C、1C和2C下分别输出约167、158、147和131mAhg⁻¹的可逆放电比容量。
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图5g的阻抗结果进一步显示,循环后添加剂体系的电荷转移电阻约为74Ω,低于对照体系的135Ω。
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图6a与图6b比较循环100次后的LFP形貌,添加剂体系的颗粒表面呈现更均匀的膜状包覆。
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图6c中的基础体系缺少连续覆盖,而图6d及其插图显示添加剂体系形成约15—20nm厚的CEI,其中分布着约5nm的纳米晶,0.20nm晶面间距对应立方LiF的(200)晶面。
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提高至3C后,图5c中的添加剂体系在500次循环后仍保持99.9%的容量,对照体系仅为44.7%,图5d中较小的充放电电压滞后与这一高倍率优势相一致。
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添加剂体系的首圈库仑效率为96.5%,后续循环的库仑效率超过99.9%。
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图1g的线性扫描伏安曲线则显示添加剂体系较早出现氧化响应,支持FNPB优先反应并参与正极保护膜形成的解释,而非将其简单理解为电解液本征氧化稳定窗口扩大。
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图文导读I双功能添加剂同时保护正负极界面研究以1molL⁻¹LiPF₆、碳酸乙烯酯/碳酸二乙酯体积比1∶1的商业电解液作为基础电解液(BE),通过引入少量FNPB调控两极界面。
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