《集成电路布图设计保护条例》配套规章、规范性文件公开征求意见

　　本报讯 为配合做好新修订的《集成电路布图设计保护条例》落地实施工作，更好支撑集成电路产业创新发展，国家知识产权局日前公布《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》《集成电路布图设计审查与执法指南修改草案（征求意见稿）》，向社会各界公开征求意见。

　　其中，《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》主要包括以下3个方面修改内容：优化登记申请及相关程序，规范业务办理流程手续；完善复审和撤销制度，提高登记确权质量效率；加强布图设计专有权保护，促进布图设计实施利用。

　　对《集成电路布图设计审查与执法指南（试行）》进行修改，是保障集成电路布图设计保护条例及其实施细则中新增和调整内容有效落地实施的重要方面。《集成电路布图设计审查与执法指南修改草案（征求意见稿）》对现行指南中的登记审查、复审与撤销、行政裁决、许可与质押等4个部分内容均进行了修改。

　　有关单位和各界人士可以在2026年9月3日前，将修改完善具体意见以电子邮件方式发送至falvshiwu@cnipa.gov.cn，或以信函方式邮寄至北京市海淀区西土城路6号国家知识产权局专利局审业部法律事务二处。（王晶）

（编辑：蔡莹）

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