光刻机

ASML的EUV物镜则是来自另一个光学技术强国德国，卡尔蔡司在这方面也有上百年的积累，EUV光刻机目前正在从第一代的NA0.33时代提升到NA0.55时代，该数值越高，光刻机的分辨率就越高，升级之后能将关键尺寸的精度从13nm提升到8nm（DUV的关键尺寸精度在38nm级别）。

快科技8月1日消息，半导体工艺进入5nm节点之后，EUV光刻机基本上是没法绕过去的，目前全球只有荷兰ASML公司能够生产这种尖端装备