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中国“芯片刻刀”出鞘:国产6 N等级(99.9999%)半导体用高纯氟化氢打破西方垄断


速读:高纯氟化氢是芯片蚀刻、清洗环节不可或缺的核心原料,被誉为半导体产业的“化学雕刻刀”。 此次滨化集团技术突破绝非单点攻关,而是工艺、工程、检测、充装一套全流程系统创新成果:企业攻克多重精馏耦合、低析出设备选材、钢瓶洁净防护、微量杂质精准检测四大核心技术,严控金属离子杂质含量低于1ppb,解决了生产、储运全链条二次污染难题。
2026年07月23日 10:05

IT之家 7 月 23 日消息,据滨州发布、大众日报消息,7 月 19 日,滨化集团举行电子级高纯氟化氢气体投产暨新产品发布会,宣布该集团旗下大晟芯材成功实现 6N 级高纯氟化氢规模化量产 ,产品关键指标达国际一流水准,一举填补山东省高纯氟化氢产能空白,为国内先进制程芯片制造供应链自主可控再添关键支撑。

高纯氟化氢是芯片蚀刻、清洗环节不可或缺的核心原料 ,被誉为半导体产业的“化学雕刻刀”。

6N 级(99.9999%)高纯氟化氢是适配 28 纳米及以下 先进制程的必需品,长期以来核心技术被海外企业垄断,国内多数产品普遍停留在 5N 级(99.999%),微小杂质差距直接制约国产芯片良率提升,是半导体领域典型“卡脖子”材料。

大众日报称,西方垄断 6N 级高纯氟化氢全球约 80% 的市场份额。目前市场价格已在 200 万元 / 吨以上。

高纯氟化氢作为滨化首款落地的电子特气产品,关键金属离子杂质含量低于 1ppb, 与国际一流水平接轨 。滨化集团特种化学品事业部总经理刘腾介绍:“别小看这后面多出来的一个‘9’—— 在芯片制造中,金属杂质含量哪怕只高出几个 ppb(十亿分之一),都可能导致芯片良率大幅下降。”

此次滨化集团技术突破绝非单点攻关, 而是工艺、工程、检测、充装一套全流程系统创新成果 :企业攻克多重精馏耦合、低析出设备选材、钢瓶洁净防护、微量杂质精准检测四大核心技术,严控金属离子杂质含量低于 1ppb,解决了生产、储运全链条二次污染难题。

目前,滨化已完成 50 吨 / 年高纯氟化氢钢瓶充装线的建设与调试,并于 7 月 16 日取得山东省特种设备检验研究院颁发的气瓶充装许可证,具备了完整的生产、充装、销售资质,实现了从实验室到产业化的闭环。依托过硬产品品质, 已面向行业重点企业开展产品推介 。6N 级高纯氟化氢市场附加值高,该项目落地将有效提升区域化工产业向高端电子化学品转型核心竞争力。

主题:高纯氟化氢|6N级|滨化集团