《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》公开征求意见
《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》公开征求意见
2026年08月03日 21:05
记者今天（3日）了解到，为推动完善集成电路布图设计保护制度，根据《集成电路布图设计保护条例》以及其他有关法律、行政法规的规定，国家 知识产权 局研究起草了《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》，现予以公布并征求社会各界意见，征求意见截止日期为2026年9月3日。
征求意见稿主要包括以下三个方面修改内容：
（一）优化登记申请及相关程序，规范业务办理流程手续。
一是完善登记申请手续。明确 电子 形式视为书面形式以及申请布图设计登记应提交样品的形式、时机和数量，补充完善 电子 形式递交和送达文件的有关规定和申请表的有关事项，增加委托代理手续以及共同申请确定代表人的规定。
二是细化申请文件的要求。规定复制件或图样应按规定的形式和格式提交，独创性声明应明确布图设计中具有独创性的部分并作出说明，具有独创性的部分应当包括可以实现独立功能的模块区域。
三是优化登记审查程序。完善不予受理的情形，细化修改申请文件的规定，增加主动撤回申请的规定。
四是规范著录项目变更程序。对创作者的姓名或名称等一般不得变更的著录项目作出规定。
五是明确行使布图设计专有权的手续。新增“行使专有权的手续”专章，对办理布图设计专有权转让登记、许可使用合同备案、质押登记、转移等业务的有关要求作出规定。
六是完善申请布图设计登记和办理其他手续时有关缴费的规定。完善费用的种类、明确网上缴费的时间和退费的有关规定。
七是完善布图设计登记簿的内容，明确公众可查阅和复制的登记簿内容。
（二）完善复审和撤销制度，提高登记确权质量效率。
一是落实党和国家机构改革精神，将复审和撤销机构由原国家 知识产权 局专利复审委员会统一修改为“国家 知识产权 局”。
二是优化复审制度，完善不予受理复审请求的情形，明确撤销原驳回决定后的审查程序。
三是完善撤销制度，细化依请求撤销的提出、受理、撤回等相关规定，增加口头审理和指定期限不得延长的规定。
（三）加强布图设计专有权保护，促进布图设计实施利用。
一是完善纠纷解决方式。明确国家知识产权局可应请求处理有关侵权纠纷，对侵权赔偿数额进行调解，请求人可以是有利害关系的自然人、法人或者非法人组织。
二是完善侵权纠纷案件的审查范围。明确国家知识产权局应当根据请求人主张的具有独创性的部分，确定布图设计专有权侵权纠纷的审理范围。
三是完善行政裁决程序中止的规定，明确国家知识产权局认为当事人提出的中止理由明显不能成立的，可以不中止有关程序。
四是细化非自愿许可制度。对非自愿许可请求的提出、受理、审查、决定等作出规定。
（文章来源：央视新闻）