政策红利落地！“十五五”规划锚定电子材料高端化，光刻胶板块顺势走
2026年09月15日 18:29:41
9月15日，午后光刻胶概念异动拉升，宝丽迪（300905.SZ）涨超15%，西陇科学（002584.SZ）涨停，怡达股份（300721.SZ）、鼎龙股份（300054.SZ）、八亿时空（688181.SH）、广信材料（300537.SZ）等跟涨。
消息面上，两部门印发《电子信息制造业发展“十五五”规划》（以下简称《规划》），提出促进电子元器件和电子材料高端化发展。
高端光刻胶被重点点名
此次，工信部、国家发展改革委联合印发《规划》，明确将电子元器件和电子材料高端化发展列为核心任务，重点攻坚半导体材料、高端功能材料等关键领域，为光刻胶等核心电子材料的国产替代、技术升级与规模化落地划定清晰路径，也为A股硬核科技细分赛道注入确定性增长预期。
作为半导体、高端显示、精密电子制造的核心基础性材料，光刻胶是电子信息产业的“刚需基石”，广泛应用于芯片光刻、高端PCB、显示面板、精密元器件加工等核心环节，其技术水平直接决定电子制造业的精度、可靠性与国产化率。长期以来，高端光刻胶及配套材料依赖进口，是制约我国电子信息制造业自主可控的关键短板之一。
本次发布的《规划》立足“筑基、提质、育新、治理”四大核心思路，部署17项重点产业任务，其中“促进电子元器件和电子材料高端化发展”被列为筑牢产业基础能力的关键举措，为光刻胶行业发展提供了明确的政策支撑与发展指引。
规划明确提出，面向人工智能、新一代信息通信、航空航天、高端智能终端等战略性新兴领域需求，推动电子元器件与电子材料产业协同升级，重点突破高性能电子功能材料、封装辅助材料、精密工艺材料等核心品类。
在专项升级清单中，大尺寸半导体晶片材料、高可靠电子陶瓷材料、超精密压电晶体材料、高端光刻胶及配套试剂等关键材料被重点点名。规划强调，要加快攻关产业基础“货架产品”，推动各类电子材料向高精密、高可靠、低损耗、国产化方向迭代，同时支持建设材料中试平台、应用验证中心，打通“技术研发—中试落地—批量应用”的全链条闭环，彻底解决高端电子材料研发落地难、验证周期长、量产不稳定等行业痛点。
政策落地意义重大
对于光刻胶行业而言，本次规划的落地具备里程碑式意义。
过去多年，国内光刻胶产业呈现“低端内卷、高端空白”的格局，低端PCB光刻胶、通用显示光刻胶已实现规模化量产，但用于先进制程芯片、高端面板的ArF、KrF光刻胶及配套显影液、光刻树脂等核心材料，国产化率长期处于低位，核心技术、高端产能高度依赖海外企业。受制于技术壁垒、设备门槛、客户验证周期长等因素，国内企业高端产品迭代速度缓慢，产业升级进度不及市场预期。
《规划》的出台从顶层设计层面打破产业发展桎梏。一方面，政策明确倾斜资源支持高端电子材料技术攻关，鼓励上下游企业、科研院所联合创新，集中力量突破光刻胶核心配方、精密合成工艺、高端提纯技术等卡点瓶颈；另一方面，通过搭建上下游对接平台、完善应用验证体系，大幅缩短国产光刻胶在头部晶圆厂、面板厂商的导入验证周期，加速国产替代落地节奏。同时，规划提出统筹规范行业竞争，整治低端同质化内卷，引导行业资源向具备核心技术、量产能力的优质企业集中，进一步优化行业竞争格局。
从产业发展维度来看，电子材料高端化升级是我国电子信息制造业高质量发展的必然趋势。数据显示，我国电子信息制造业产业规模持续扩容，预计2030年规上企业营业收入将突破30万亿元，产业研发投入强度提升至3.5%，集成电路、先进计算、高端终端等核心领域将迎来高速增长。庞大的产业规模，将持续催生高端光刻胶的增量需求。无论是先进制程芯片迭代、AI算力硬件升级，还是新型显示、航空航天电子、高端传感设备的产业化，都离不开高端光刻胶的支撑，行业长期成长空间彻底打开。
哪些企业有望受益？
聚焦A股市场，本轮光刻胶板块拉升，标志着市场资金的投资逻辑正在发生切换。此前科技赛道资金多聚焦于整机、终端、算力设备等显性赛道，而随着“十五五”规划落地，资金开始深度挖掘上游基础材料、核心元器件等隐形刚需赛道。
细分领域中，布局高端半导体光刻胶、配套材料、一体化研发量产的龙头企业，有望凭借技术壁垒和政策红利，持续抢占海外替代份额，迎来业绩与估值双重修复。
彤程新材依托子公司北京科华，是国内KrF光刻胶领域的代表性厂商，KrF光刻胶国内本土市占率已经超过10%，同时多款ArF以及BARC底层抗反射涂层产品实现客户端放量，公司打通树脂分子设计、合成、光刻胶配制到客户验证的完整链条，半导体光刻胶及配套试剂业务营收实现高速增长。
鼎龙股份建成国内少有的覆盖“有机合成—高分子合成—精制纯化—光刻胶混配”全流程的KrF/ArF光刻胶产线，核心树脂、光致产酸剂实现内部自给，多款KrF、ArF产品已经拿到主流晶圆厂批量订单，重点面向存储、高性能逻辑芯片市场做商业化拓展，一体化模式能够缩短新产品迭代与客户试样周期。
南大光电在ArF光刻胶赛道实现重要突破，多款ArF光刻胶产品通过晶圆厂验证，同时布局光刻胶功能单体、树脂自研，形成光刻胶、电子特气、MO源前驱体多材料协同，是国内少数实现ArF光刻胶商业化供货的企业。
除光刻胶成品厂商外，上游配套材料企业同样是产业链自主可控不可或缺的一环。像强力新材、扬帆新材聚焦光致产酸剂、光敏剂等光刻胶关键感光原料；江化微布局光刻工艺所需显影液、剥离液等湿电子化学品；瑞联新材专攻光刻胶高端功能单体，这些配套企业补齐产业链短板，为国产光刻胶成品的性能稳定、供应链安全提供底层支撑。