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天岳先进


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12英寸碳化硅衬底

在社会层面,天岳先进12英寸碳化硅衬底的成功研发,突破海外技术壁垒,保障我国新能源、算力基础设施产业链供应链安全,带动国内第三代半导体上下游产业集群就业。
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业内人士认为,天岳先进的12英寸碳化硅衬底项目的落地,对第三代半导体、半导体材料行业具备较强的复制与推广价值。
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效果

在热场设计上,天岳先进采用先进技术,减少长晶试错次数,降低研发阶段能源消耗;
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在行业主流物理气相传输法(PVT)存在12英寸场景下热场不均、缺陷高、能耗巨大等痛点的背景下,天岳先进发挥液相法技术路线优势,自主攻克大尺寸籽晶制备、晶体缺陷抑制、高精度研磨抛光全套工艺。
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