庄黎伟

与此同时，庄黎伟团队与美国约翰霍普金斯大学、纽约州立大学石溪分校等研究团队在薄膜沉积领域保持着“中方仿真，美方实验”的合作模式，并联合多家海外机构开展ALD/MLD/CLD等各类薄膜沉积工艺的理论与应用研究。

相对于CLD的液相沉积模式，原子层沉积（ALD）是一种化学气相沉积方法，也是庄黎伟团队的主要研究方向。

2025年9月，华东理工大学化工学院副教授庄黎伟带领研究团队，联合约翰霍普金斯大学（JohnsHopkinsUniversity）等高校和机构，采用实验加仿真的方法，开发了化学液相沉积（CLD）制备先进光刻胶的新型工艺。