光刻机

日本佳能的相机名气非常大，同样在光刻机领域的发展也是十分不错的，早在1970年，佳能就推出了日本的第一款半导体光科技了，之后为了满足日益增长的市场需求，佳能也一直在研究光刻机的道路上越走越远。

不过华为的芯片业务却遭遇了一个瓶颈，那就是光刻机了，这么多年来，光刻机技术一直没有取得很大的突破，相较于国外晚了很多年。

之所以佳能在光刻机技术有着领先的表现，和旗下的相机产业脱离不了关系，众所周知，相机成像如何和镜头是有很大关系的，而佳能在镜头方面的技术一直领先，所以也让佳能在光刻机行业的起步就快人一步了。

俄罗斯的光刻机还可使用硅基光阻剂，预期在较短波长下将具备更出色的性能表现。

据报道，俄罗斯光刻机的开发工作将分为三个阶段，第一阶段将聚焦于基础研究、关键技术识别与初步元件测试。

该项目计划由俄罗斯科学院微结构物理研究所的NikolayChkhalo领导，目的是制造性能具竞争力且具成本优势的EUV光刻机，以对抗ASML的设备。