据报道，中国利用较旧的ASML组件制造EUV原型机，Eyes 2028芯片制造
中国朝向国产紫外真空 能力的漫长进程似乎正在缩小，近期发展显示进展速度超乎预期。据 路透社 报道，消息人士称中国已组装了一台使用旧 ASML 系统组件的 EUV 原型机。
正如报道所示，消息人士称中国政府目标是在2028年前生产使用该原型机的实用芯片，尽管2030年被视为更现实的目标。原型机的存在表明，中国距离半导体自给自足可能比此前预期的更近数年。
报道援引消息人士称，原型机于2025年初完成，目前正在进行测试。报告补充说，虽然该机器已运行并具备极紫外光的能力，但尚未生产出可工作的芯片。
据报道，前 ASML 工程师参与了 EUV 项目
报道援引消息人士称，该原型机由前 ASML 工程师开发，他们在使用化名工作以保持机密的情况下逆向工程极紫外飞行设备，补充说，没有他们深厚的第一手专业知识，这项工作几乎不可能完成。
报告补充称，招募这些前ASML老将是2019年发起的积极人才招募活动的一部分，旨在吸引海外半导体专家，提供300万至500万元（约合42万至70万美元）的签约奖金及购房补贴。值得注意的是，报道提到，这些新成员包括ASML前光源技术负责人林楠，他所在的中国科学院上海光学研究所团队在过去18个月内申请了8项极紫外光源专利。
据报道，华为是 EUV 项目的核心
除了前ASML工程师外，报告援引消息人士称，尽管EUV项目由中国政府主导，华为在协调全国范围内的企业和国家科研机构网络中发挥着核心作用，该网络涉及数千名工程师。
报告指出，华为已派遣员工到全国各地的办公室、晶圆厂和研究中心，以支持该项工作。据报道引用的消息人士透露，分配给该项目的员工常常在工作日内留在现场，且由于工作敏感性，回家时受到限制，电话访问也受限。
当前原型的局限性
虽然中国已开发出EUV原型，但报告指出其技术远不及ASML系统先进。原型机具备测试功能，但中国仍面临重大技术难题——尤其是在匹配西方供应商生产的超精密光学系统方面。
据报道中引用的消息人士透露，中国的原型机落后于ASML的机器，主要是因为研究人员难以获得如德国蔡司公司（ASML重要合作伙伴）提供的超精密光学系统。与此同时，据称原型机将使用日本尼康和佳能的出口限制组件。