消息称三星电子泰勒逻辑厂启动光刻机调试，平泽DRAM厂下达设备订单

IT之家 4 月 6 日消息，综合两家韩媒 edaily 和 ZDNET Korea 的报道，三星电子的半导体部门正加快扩产速度，因应 AI 热潮下对先进逻辑与存储半导体产能的需求。

在逻辑芯片方面，据 edaily 昨日报道，三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的 2nm 晶圆厂已进入试运营阶段， EUV 光刻机的测试已启动 ，蚀刻和沉积流程的主要设备也正分阶段导入，为今年内的初步运营和 2027 年的全面投产做好准备。

而对于内存，参考 ZDNET Korea 今日报道，三星电子在 3 月末 为平泽 P4 晶圆厂集群的最后两个阶段 —— PH2 和 PH4 —— 下达了大宗前端设备订单 。这两阶段都将生产支持 HBM4、HBM4E 乃至 HBM5 的 1c nm DRAM Die。

平泽 P4 的 PH1 已完成投资；PH3 的设备安装工作也基本完成，有望在年内实现 13~14K WPM 的投片量；剩余阶段中 PH4 的整体进度会稍微快一些，计划今年 5~6 月启动设备导入；PH2 目前已启动洁净室建设，今年 11 月启动装机，2027 年 2 月有望完成。

关键词 :

三星电子 dram 光刻机 泰勒 半导体

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主题：三星电子