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璞璘科技
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自主研发
此次量产突破的核心是
璞璘科技
自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻设备,配合定制化双层压印胶材料体系与核心工艺,整个生产过程无需使用ASML的DUV光刻机。
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2026-06-09
快科技6月9日消息,杭州
璞璘科技
(Prinano)近日通过官方微信公众号宣布,与深圳力策科技合作采用自主研发的真空气压式纳米压印方案
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